Investigations on HCl contaminated Cu 200mm wafers using Parallel Angle resolved XPS - FMNT - Fédération Micro- et Nano- Technologies Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2008

Investigations on HCl contaminated Cu 200mm wafers using Parallel Angle resolved XPS

Fichier non déposé

Dates et versions

hal-00399953 , version 1 (29-06-2009)

Identifiants

  • HAL Id : hal-00399953 , version 1

Citer

B. Pelissier, A. Beaurain, H. Fontaine, A. Danel, O. R. Joubert. Investigations on HCl contaminated Cu 200mm wafers using Parallel Angle resolved XPS. MNE 08, 2008, athenes, Greece. ⟨hal-00399953⟩
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